Intel、台积电、三星激战2nm!三巨子先进工艺制程进展一览
时间:2025-05-21 21:13:34 来源:锐评时讯 作者:女性 阅读:541次
快科技4月3日音讯,日前举行的Vision 2025大会上,Intel正式宣告18A工艺制程技能已进入危险出产阶段。估计本年下半年首发该工艺的Panther Lake处理器将进行大批量出产。
此举为“四年五个节点(5N4Y)”方案立下要害里程碑。依照Intel的愿景,18A将是其反超台积电、重夺半导体工艺世界第一的要害节点。
值得重视的是,此为新任华人CEO陈立武接棒后首度揭露露脸,业界解读Intel此举在向台积电、三星等竞争对手展现技能肌肉。
Intel 18A工艺将全球初次一起选用PowerVia反面供电和RibbonFET栅极盘绕(GAA)晶体管技能。,台积电则会在本年下半年2nm运用Nanosheet晶体管技能、2026年下半年导入超级电轨(Super Power Rail),2027年进行1.4nm危险性试产。
半导体从业者泄漏,若Intel 18A推动顺畅,将会比台积电2nm更早导入晶背供电技能。
至于三星,尽管最早导入GAAFET晶体管技能,但良率一直未达量产水准。现在则首要重视三星自家Exynos 2600芯片,是否会在5月投入出产。
不过,三星估计2027年才会在SF2Z加上反面供电技能,推动上较竞争对手相对缓慢。。
在三巨子往2nm行进之际,日本Rapidus也不容小觑。据悉,其北海道千岁市的2nm晶圆厂试产产线方案将在本月启用,瞄准2027年开端量产。
归纳来看,台积电在先进工艺制程上有比较显着的速度优势,Intel正在新CEO的带领下奋勇赶上,胜败要害就看18A是否能按期量产达到方针。
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