172nm晶圆光清洗计划 助力半导体国产代替
作者:经济 来源:新闻 浏览: 【大 中 小】 发布时间:2025-05-26 03:24:43 评论数:
在半导体制作中，清洗工艺贯穿于光刻、刻蚀、堆积等要害流程，并在单晶硅片制备阶段发挥着重要作用。跟着技能的开展，芯片制程已推进至28nm、14nm甚至更先进节点。
晶圆对细小污染物的敏感性也明显增强。每一道工序前，晶圆外表都需铲除颗粒、有机物、金属杂质和氧化层等污染物，以保证后续制程的顺利进行。以7nm及以下制程工艺为例，若晶圆外表每平方厘米存在超越3个0.5nm粒子，良率或许下降12%-18%。
国产代替提速，破解172nm光源依托。
晶圆外表清洗作为先进制程中的要害工序，正朝着高效、低损的方向不断演进。针对纳米级有机污染物，172nm准分子紫外光清洗技能供给了一种非触摸、高精清洁的解决计划，逐步成为职业使用和技能开展的要点方向。
但是，该技能所依托的172nm准分子光源长时间依托进口，面对本钱高、供给不安稳、技能封闭等问题。跟着全球工业链重构和供给链安全意识提高，国产代替需求更加火急。
广明源172nm晶圆光清洗计划：高效、非触摸、精细化。
该技能经过172nm高能紫外光激起有机物产生自由基，并与氧自由基产生光敏氧化反响，能有用将污染物分解为水和二氧化碳，然后到达原子级洁净度。
172nm平板型光源。
172nm网状电极圆管光源。
技能优势：
√ 非热处理：冷光源技能，防止热应力，适用于热敏资料。
√ 高效清洁：可有用去除纳米级有机残留，提高工艺良率。
√ 安稳性好：长寿命规划，功能安稳牢靠。
√ 交给牢靠： 资深172nm准分子光源及设备制作商，交给有保证。
√ 灵敏定制：可依据客户需求供给定制化设备和解决计划。
适用范畴：
√ 半导体晶圆清洗与去胶。
√ 光学透镜清洁。
√ LCD/OLED的TFT出产（去除光刻胶残留）。
√ 高精度PCB外表处理。
172nm紫外线晶圆光清洗模组。
该模组专为晶圆光清洗规划，可高效去除纳米级有机污染物和残留胶质，提高后续镀膜/键合等工艺良率。
√ 长寿命规划：经过阴极资料优化和气体配比操控，保证2500小时安稳输出。
√ 无损伤处理：冷光源特性，防止热应力导致晶圆翘曲。
√ 冷却方法：风冷/水冷可选，依据产线洁净度要求灵敏装备。
推进光清洗设备国产代替，服务高端制作工业。
广明源深耕光科技使用的研制与制作二十多年，专心172nm准分子光源及设备/模组的研制，掩盖光清洗、光固化、光改性、纯水处理等多个要害范畴。依托老练的研制立异、设备规划与定制才能，广明源可供给从试验验证到量产阶段所需的核心光部件与解决计划，助力国内高端制作完成自主可控，保证工业链安全安稳。