快科技9月11日音讯，据国家电力出资集团官方音讯，近来，集团所属国电投核力创芯（无锡）科技有限公司核力创芯暨国家原子能组织核技术（功率芯片质子辐照）研制中心，完成了第一批氢离子注入功能优化芯片产品客户交给。

这标志着，我国已全面把握功率半导体高能氢离子注入核心技术和工艺，补全了我国半导体产业链中缺失的重要一环，为半导体离子注入设备和工艺的全面国产代替奠定了根底。

工程师进行晶圆离子注入出产。

氢离子注入是半导体晶圆制作中仅次于光刻的重要环节。，在集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型半导体产品制作过程中起着关键作用。

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